化工行业半导体材料系列报告（三）：国产化排头兵湿电子化学品未来可期-210831（46页）.pdf

1、平板显示行业主要指的是对于平板显示器进行制造，应用于下游移动通讯、数码设备、电脑以及电视等等。在平板显示的发展阶段中，主要技术包括液晶显示(LCD)、等离子显示(PDP)、有机发光二极管显示(OLED)、场发射显示器(FED)。现在迅猛发展的TFT 液晶显示器(TFT-LCD)具有成本低、高解析度、高亮度、宽视角、能耗低等特点，已经成为了产业中的主导产品。TFT-LCD 面板的制作主要包括阵列制造工艺(Array)、彩膜(CF)制造工艺、液晶盒(Cell)制造工艺以及模组(Module)制造工艺。阵列制造工艺和彩膜制造工艺是对于品质要求最为严苛的地方，也是湿电子化学品核心应用场景。(1)阵列工

2、艺，一般有导电层沉积、清洗、光刻胶覆盖、光刻曝光、显影、烘干、蚀刻、光刻胶剥离等步骤。完成后一般重复 5 次从而在最后形成复杂的电极。在制作流程中，主要在清洗、显影、蚀刻和光刻胶剥离的过程中需要使用湿电子化学品。 清洗包括两个层面，一者是洗去玻璃基板制成过程中的尘粒，一般使用中性清洗剂(包含去离子水、界面活性剂和添加剂)或是去离子水。另一者是使用碱性清洗液来去除油污。另外一个较为细致的点是光刻胶容易在涂胶喷嘴上残留，固化后会影响涂布效果，一般使用丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)和丙二醇甲醚(PGME)的混合液来快速溶解光刻胶。显影工艺中一般常用四甲基氢氧化铵(TMAH)的水溶液作为显影液。蚀刻工

3、艺中一般是各种酸，按照制程不同选取草酸系(草酸、添加剂、界面活性剂)、盐酸系(HCl，FeCl3)、和混酸(H2SO4 和 HNO3)等。剥离工艺中一般采用二甲基亚岚(DMSO)和单乙醇胺(MEA)7:3 质量比的混合液，使得光刻胶起泡膨胀并将接触面浸润，剥离并溶解光刻胶。未来出于环保考虑，也会使用二乙二醇单丁醚(BDG)来替代DMSO。彩膜工艺与阵列工艺中湿电子化学品的使用类似，也包括多次的曝光和显影等等操作。一般彩膜工艺中运用的显影液分为氢氧化钾(KOH)为代表的强碱系和碳酸氢盐为代表的弱碱系。面板显示主要分为LCD 和OLED，LCD 中剥离液、AL 刻蚀液、Cu 显影液用量最多，合计占

4、比超过50%，OLED 中，剥离液和显影液用量合计占比70%，国内布局企业有：江化微剥离液、蚀刻液和稀释剂纯度达 G3-G4，3.5 万吨产能在建中;江阴润玛蚀刻液，产能未公布。下游市场规模，2019 年全球面板显示行业市场规模为 1000 亿美元，2016-2019 年CAGR 为-1.2%，中国大陆市场规模约为 1740 亿元，占比 26%，2016-2019 年 CAGR 为2%。根据半导体材料系列报告二分析，面板显示行业市场增长有五大驱动力，“全球产业链转移、消费升级、技术迭代、应用场景拓宽、国家政策支持”，显示面板市场规模将进一步提升，预计 2025 年中国大陆 LCD、OLED 市场份额将提升至 69%、47%。