电子行业深度报告：光刻胶核心半导体材料步入国产替代机遇期-210903（33页）.pdf

1、目前，在半导体光刻胶领域，国内厂商在技术实力、市场影响力、份额占比等方面仍落后于日韩领先企业。不过，在晶圆厂扩产潮以及半导体国产化如火如荼的趋势下，中国光刻胶厂商迎来了绝佳的发展机遇期。目前已有部分领先企业，如晶瑞电材、北京科华等，开始崭露头角，在 KrF、ArF 等高端光刻胶领域实现从零到一的突破。中国光刻胶产业有望步入快速成长期。1、晶瑞电材：国内光刻胶领域先驱，加速高端产品科研攻关晶瑞电材是一家微电子材料的平台型高新技术企业，其围绕泛半导体材料和新能源材料两大方向，主要产品包括光刻胶及配套材料、超净高纯试剂、锂电池材料和基础化工材料等，广泛应用于半导体、新能源、基础化工等行业。子公司苏州

2、瑞红深耕光刻胶近 30 年，产品类型丰富。晶瑞电材子公司苏州瑞红 1993 年开始光刻胶生产，承担并完成了国家02 专项“i 线光刻胶产品开发及产业化”项目。公司近30年致力于光刻胶产品的研发和生产，光刻胶产品类型覆盖高中低分辨率的 I 线、G 线紫外正性光刻胶、环化橡胶型负性光刻胶、化学增幅型光刻胶、厚膜光刻胶等类型，应用行业涵盖IC、TFT-array、LED、Touch panel、先进封装等领域。半导体光刻胶方面，公司g 线、i 线产品已实现量产，客户覆盖国内一流厂商。苏州瑞红完成了多款 g 线、i 线光刻胶产品技术开发工作，并实现销售。取得中芯国际、扬杰科技、福顺微电子等国内企业的供

3、货订单，并在士兰微、吉林华微、深圳方正等知名半导体厂进行测试。目前公司正不断扩大g/i 线光刻胶的市场占有率。同时，公司持续推进KrF/ArF 深紫外线光刻胶科研攻关。目前，KrF(248nm 深紫外)光刻胶已完成中试，产品分辨率达到了 0.250.13m 的技术要求，建成了中试示范线。公司于2020 年下半年购买 ASML1900Gi 型光刻机设备，ArF 高端光刻胶研发工作正式启动，旨在研发满足90-28nm 芯片制程的ArF(193nm)光刻胶。LCD 光刻胶方面，公司 2016 年与日本三菱化学株式会社在苏州设立了 LCD 用彩色光刻胶共同研究所，为三菱化学的彩色光刻胶在国内的检测以及

4、中国国内客户评定检测服务，并于2019 年开始批量生产供应显示面板厂家。公司持续投入研发资源，引进高端技术人才。2020 年公司研发投入为3,384.70 万元，占营业收入的 3.31%，研发人员增长至 96 人，占员工比例的 16.6%。截至 2020 年底，公司及控股子公司已获授权专利70 项，其中发明专利43 项，实用新型专利27 项，其中光刻胶相关的已获授权发明专利 17 项。公司重视高端技术人才的引进，近期邀请陈韦帆先生担任光刻胶事业部总经理职务。陈韦帆先生深耕半导体行业近 20 年，曾先后履职力晶、日月光、友达光电、美光(台湾)、TOK 等知名半导体企业，尤其在高端光刻胶产品的技术

5、研发、市场开拓及评价实施上拥有丰富的经验。此次陈韦帆先生的加入将会大力提高公司在高端光刻胶的研发及市场推广的速度。随着我国芯片制造行业国产替代进程加速，2020 年公司核心产品光刻胶及配套材料的销售取得历史最好成绩，全年实现销售 1.79 亿元，同比增长 16.98%。与此同时，光刻胶业务在公司营业收入中的占比也得到显著提升，2020 年达到17.52%。北京科华是上市公司彤程新材的控股子公司，其 56.56%的股权由彤程新材持有。北京科华是一家专注于光刻胶及配套试剂的高新技术企业，集先进光刻胶研发、生产和销售为一体。自2004 年成立以来，承担了多项国家级光刻胶重点研发及产业化项目。公司产品

6、序列完整，覆盖KrF(248nm)、I-line、G-line、紫外宽谱光刻胶。目前，集成电路用高分辨 G 线正胶、I线正胶、KrF-248nm 深紫外光刻胶已实现产线建设和量产出货。其产品已广泛应用于集成电路、发光二极管、分立器件、先进封装等领域。公司凭借先进的技术水平和稳定的产品质量，已经成为行业顶尖客户的稳定合作伙伴。公司主要客户包括中芯国际、上海华力微电子、长江存储、华润上华、杭州士兰、吉林华微电子、三安光电、华灿光电等。伴随产品线拓展及客户导入，公司收入规模逐年提升