浸入式ArFi光刻机出货量（台）：ASML近乎垄
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持续研发投入转化为可持续领先优势。ASML 持续加大研发力度，2023 年ASML 研发费用 39.8 亿欧元，研发费用率 14.4%，显著高于尼康的 10.7%、佳能的 7.9%。持续研发投入体现为高端光刻机领域的垄断，目前 EUV 光刻机仅 ASML 具备生产能力，次高端的浸入式 ArFi 光刻机、干式 ArF 光刻机尼康具备少量出货能力，而佳能专注于中低端的 KrF 和 I-line，不涉及 EUV和 ArF 等尖端产品。
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