国产厂商在各加工环节所需设备的布局情况资料来源：新芯股份招股书
2024-10-24 08:15:22
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晶圆加工的一般工艺流程主要分为光刻、刻蚀、薄膜沉积等环节，而国内半导体设备厂商经过多年的发展，在主要工艺环节上均已取得一定的突破，例如北方华创在刻蚀、沉积、热处理以及清洗等四大环节均有所布局，有望充分受益于半导体设备的国产化趋势。
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