1、光刻机市场规模

2020年全球光刻机销量413台，估计销售额130多亿美元均创历史新高。根据ASML、Canon、Nikon公告，全球光刻机销量413台，同比增长15%，按季度依次是95台、95台、97台、126台，分别同比增长19%、25%、8%、12%。参考ASMIL单价，我们估计全球光刻机市场规模达到130多亿美元，同比增长20%以上，且2016-2020年全球光刻机市场规模年均复合增长23%。

2、光刻机销量

从数据显示中，我们可以看出，ASML在技术水平上遥追领先，目前是全球光刻机领城的绝对龙头。ASML自2004年推出第一台浸润式光刻机样机后，市场份额开始快速提升，2010年ASML推出第一台EUV光刻机,成为全球光刻机领域的绝对龙头,目前全球每年光刻机产出量300-400台，基本被ASML、Canon和Nikon三家供应商包揽。2019年销售的358台光刻机设备中，ASML贡献229台，市场份额超过60%，其中EUV光刻机全部由ASML供应。半导体热潮，让光刻机成了香饽饽。不过，依照ASML(阿斯麦)、尼康、佳能三家公司的官方数据整理得知，全球光刻机总销售量为413台。其中ASML销售258台占比62%，佳能销售122台占比30%，尼康销售33台占比8%。不过按照销售额来计算的话，因为最昂贵的EUV只有ASML制造销售，所以总的份额占比依次是91%、3%、6%。从光刻机类型来看，尼康出货的主要是ArF immersion、ArF dry，佳能主要是KrF、i-line(份额69%)。当然，ASML在各种类型的光刻机上都有涉猎，除了i-line，几乎每种类型都是绝对龙头。

2、光刻机发展历程

第一代(接触接近)

光源：436nm g-line

最小工艺：00-250nm

第二代(接触接近)

光源：365nm i-line

最小工艺：800-250nm

第三代(扫描投影)

光源：248nm KrF激光

最小工艺：180-130nm

第四代(浸没步进式投影)

光源：193nm ArF激光

最小工艺：45-20nm、130-65nm

第五代(极紫外/EUV)

光源：13.5nm极紫外光

最小工艺：20-7nm

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