华创证券发布半导体设备零部件竞争格局深度报告。全球半导体设备零部件行业格局整体相对分散，2022年前十厂商收入份额合计53%，但各细分赛道内部集中度极高——静电卡盘前四占90%+、真空泵三家占88%、真空阀门VAT占70%。各厂商专注特定细分领域，技术壁垒和客户黏性构筑深厚护城河。国内设备厂前五大供应商采购占比从2019年的33.65%下降至2023年的22.93%，国产零部件厂商从0到1快速崛起。
全球格局：整体分散，细分高度集中
根据Yole数据，2022年全球半导体设备关键子系统收入前十厂商为ZEISS（光学物镜系统）、MKS（MFC/射频电源/真空系统）、Edwards（真空泵）、Advanced Energy（射频电源）、UCT（真空阀）、Horiba（MFC）、Ichor Systems（气体输送系统）、VAT（真空阀）、EBARA（真空泵）和ASML（光学系统），合计份额53%。
行业整体CR10仅53%，相对分散，但细分赛道集中度极高。半导体设备本身结构复杂，对加工精度、一致性、稳定性要求高，精密零部件制造工序繁琐、技术难度大，行业内多数企业只专注于个别生产工艺或特定精密零部件产品，形成各细分赛道寡头格局。
细分赛道一：光学系统——ZEISS主导光刻机光学
光学系统是光刻机与量检测设备重要组成，覆盖半导体制造全流程。光刻机光学子系统包括光源（决定光刻机工艺能力）、照明系统（光瞳整形透镜/匀光单位/扫描狭缝/中继镜）和物镜系统（最昂贵、最复杂的核心部件，平整度和光洁度要求极高）。
ZEISS在光刻机光学物镜系统领域占据主导地位，ASML自产部分光学系统。国内企业尚未进入国际半导体设备厂商，已少量应用于国内光刻设备，国产化率极低，高端产品尚未国产化。
细分赛道二：真空系统——VAT/Edwards/Ebara三强鼎立
真空系统是半导体最大细分子系统，包含真空泵（Edwards/Ebara/Atlas垄断）、真空阀门（VAT占70%）、真空计（MKS/Horiba主导）、真空腔体及管路（UCT等）。VAT半导体领域真空阀市场份额约70%，2022年相关销售额7.71亿瑞士法郎（约11.3亿美元）。真空泵市场三家合计占88%，2022年全球规模196.4亿元。
细分赛道三：电气类——射频电源海外主导
射频电源为等离子体配套电源，应用于离子注入、薄膜沉积和刻蚀设备，直接关系到反应腔体中等离子浓度、均匀度及稳定度。Advanced Energy、MKS等海外厂商主导，国内英杰电气等企业主要供应国内半导体设备厂及泛半导体领域（光伏、LED等），尚未进入国际设备厂商，高端产品国产化率低。
国内格局：国产供应商导入加速，集中度下降
国内主要设备厂前五大供应商采购占比从2019年33.65%下降至2023年22.93%，国产零部件供应商加速导入。机械类（富创精密等）国产化率相对较高，部分已进入国际设备厂商；气/液/真空系统类（新莱应材等）处于中等水平；电气类、仪器仪表类、光学类国产化率低。
半导体设备零部件验证壁垒高，一旦形成稳定合作，供应商具备长期优势。国内厂商从0到1突破后，有望在细分赛道中持续提升份额。建议关注各品类头部国产企业：富创精密（金属工艺/结构件）、珂玛科技（先进陶瓷）、新莱应材（真空/气体系统）、英杰电气（射频电源）、江丰电子（靶材+零部件）。
