六氟化钨:高性能沉积材料,需求与日俱增 六氟化钨属于钨氟化物,在钨氟化物中,六氟化钨是目前唯一被工业化生产的品类。集成电路是六氟化钨的重要下游市场,可以应用化学气相沉积(CVD)工艺来制备钨膜,也可以制备二硅化钨(WSi2)用于制造大规模集成电路用配线材料,另外还可以作为集成电路电极的原材料、氟化剂、聚合催化剂及光学材料的原料等。在光伏领域,六氟化钨可制造 X射线发射电极、太阳能吸收器、导电浆糊等产品。六氟化钨作为高性能的沉积材料,其供需变化趋势与三氟化氮相似,随着集成电路工艺的不断迭代,特别是 3D NAND 层数的不断增加,对六氟化钨产品的需求也有望与日俱增。