光刻胶的核心技术难点在于树脂材料。光刻胶由感光树脂、增感剂、溶剂与助剂构成。其中感光树脂是光刻胶最关键的成分,其是一种高分子聚合物,作为光刻胶的“骨架”,将光刻胶中不同材料聚合起来。树脂的结构设计涉及单体的种类和比例,会直接决定光刻胶在特定波长下可以达到的线宽、碱溶解速率的特性,从而决定曝光能量、能量窗口、线宽边缘粗糙度等。此外树脂的分子量、分散度等会影响光刻胶的胶膜厚度、耐刻蚀性、附着力等。即树脂的质量决定了光刻“成画”的水平,而树脂质量的稳定性决定了每一幅画的水平是否稳定。根据集成电路材料产业技术创新联盟的光刻胶专利分析报告,全球 5483 件光刻胶专利中 69%的专利涉及树脂的研发。