CCP与ICP简化示意
2024-01-19 08:15:12
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按等离子产生和控制技术不同，等离子刻蚀主要分为电容耦合等离子体（CCP）和电感耦合等离子体（ICP）。电容耦合等离子体刻蚀是将射频电源接在反应腔上、下电极中的一个或两个上，两个极板之间的等离子体形成简化等效电路中的电容。电感耦合等离子体刻蚀是将一组或多组连接射频电源的线圈置于反应腔上部或周围，线圈中的射频电流所产生的交变磁场透过介质窗口进入反应腔，实现对电子的加速，从而产生等离子体。根据 Gartner数据，2022年 ICP占干法刻蚀市场 47.9%，CCP占干法刻蚀市场 47.5%。
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