PVD、CVD及ALD成膜效果
2024-10-14 08:15:22
445
相关数据
行业数据1
图12.PVD涂层刀片的后刀面磨损带宽度VB（毫米）
2026-03-12 08:15:35
26
原图定位
行业数据1
图13.CVD涂层刀片的后刀面磨损带宽度VB（毫米）
2026-03-12 08:15:35
20
原图定位
自研数据1
图3-62025年全球CVD设备市场集中度
2026-03-10 11:49:31
13
原图定位
自研数据1
图3-52020-2025年全球与中国CVD设备市场规模
2026-03-10 11:49:31
19
原图定位
自研数据1
图3-72020-2025年中国CVD设备国产与进口比例
2026-03-10 11:49:31
20
原图定位
竞争格局1
2024年全球ALD设备市场竞争格局
2026-01-12 13:46:05
46
原图定位
行业数据1
CVD硅碳负极进度领先及上游原材料和设备供应商
2025-09-11 13:47:21
161
原图定位
行业数据1
2025年小核酸药物在CVD领域有望迎来3期数据读出里程碑
2025-07-28 13:41:05
192
原图定位
行业数据1
化学气相沉积（CVD）反应器在碳化硅外延生长中的应用
2025-05-30 13:45:20
207
原图定位
行业数据1
PVD/CVD法制备金属粉末颗粒凝并与聚结
2025-05-14 15:26:33
223
原图定位
行业数据1
ALD新产品VS-300tAstra-sSiO，膜厚与片内均均匀性，可配置5个反应腔，以及多达30个反应站
2025-05-14 15:26:33
220
原图定位
行业数据1
化学气相沉积工艺（CVD）示意
2025-04-18 13:43:52
217
原图定位
行业数据1
CVD硅碳制备工艺（流化床法）
2025-04-15 13:42:23
248
原图定位
行业数据1
CVD硅碳负极降本路径（万元/吨）
2025-04-15 13:42:23
345
原图定位
行业数据1
高温高压法（HTHP）和化学气相沉积法（CVD）对比
2025-04-01 13:42:08
273
原图定位
最新数据
行业数据1
图11 联合国全球数字和可持续贸易便利化调查评分，2025年
2026-04-03 08:30:00
41
原图定位
行业数据1
图10 印度尼西亚针对其前10大出口产品进入美国市场的主要竞争者及其最新的相应关税水平
2026-04-03 08:30:00
39
原图定位
行业数据1
图9 “最坏情况”贸易战对价格的影响，2025 到 2030 年
2026-04-03 08:30:00
33
原图定位
行业数据1
图 8 “最坏情况”贸易战对印度尼西亚前10大农业食品下游需求部门的影响，2025年至2030年
2026-04-03 08:30:00
29
原图定位
行业数据1
图6 印尼对美国的农业出口，2010年至2024年
2026-04-03 08:30:00
35
原图定位
行业数据1
图7 受到美国互惠关税影响最大的五种农业食品产品
2026-04-03 08:30:00
30
原图定位
PECVD 为芯片制造主要薄膜沉积方式。根据不同原理薄膜沉积设备主要分为 CVD 设备、PVD 设备和 ALD 设备。化学气相沉积是通过化学反应的方式，利用加热、等离子或光辐射等各种能源，在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。常用CVD 设备包括 PECVD、SACVD、APCVD、LPCVD、ALD 等，适用于不同工艺节点对膜质量、厚度、孔隙沟槽填充能力等不同要求。PECVD 利用等离子体技术，在相对较低反应温度下形成高致密性、高性能薄膜，被广泛应用于逻辑芯片、DRAM 芯片以及 3D NAND FLASH 芯片的制造过程中，包括形成介质层、钝化层以及硬掩膜等工艺领域，占总薄膜沉积设备 33%。
行业数据
原图定位
相关数据
最新数据
原图定位
