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刻蚀设备在半导体设备中为价值量最高的环节之一，CCP 设备占比预将回升超越 ICP设备。2022 年全球半导体设备市场中刻蚀设备占比与薄膜沉积设备相近，约为 22%，是占比最高的设备环节；其中 ICP 刻蚀设备及 CCP 刻蚀设备分别占刻蚀设备市场规模的 47.9%和 47.5%，整体占比相当，过去 CCP 设备市场规模占比更高，后伴随先进制程发展 ICP 设备需求增速更快、使得 ICP 设备占比超越 CCP 设备，近年来由于 NAND 逐步迈入 3D 结构时代，存储芯片对 CCP 设备需求增大，使得 CCP 设备市场规模占比快速回升，且预计未来将再度反超 ICP 设备占比。
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