图表11半导体光刻光源及工艺节点对应关系
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案。自 2010 年首台样机问世以来，ASML 先后推出 NXE:3100、NXE:3300B 至NXE:3600D 机型，分辨率持续提升，支持制程推进至 3nm。当前 ASML 为全球唯一EUV 供应商，并正研发数值孔径 0.55 NA 的 High-NA EUV，目标锁定 2nm 及以下节点。
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