各原厂DRAM制程路径（黄色方框代表引入EUV光刻机的节点）：三星、海力士于1α工艺节点开始使
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3）美光：美光 1α 和 1ß 节点通过 DUV 的多重图案化，开发了兼具成本和性能竞争力的 DRAM。在更先进的 1γ制程上，美光计划引入 EUV 光刻技术，2025 年量产。
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