2025 年全球刻蚀设备市场将超过 180 亿美元,其中 ICP 空间更大,国内 CCP 市场占比相对更高。据统计,2021 年全球刻蚀设备市场规模约为 175 亿美元,其中用于硅刻蚀和金属刻蚀的 ICP 刻蚀设备占比刻蚀设备总体市场份额的 62%,用于介质刻蚀的 CCP 刻蚀设备占比份额为 38%。市场占比方面,ICP 设备占比相对更高,主要原因是先进制程中,线宽和刻蚀精度要求提升,沉积的膜厚变薄,ICP 作为低能离子刻蚀,对刻蚀结构表面损伤更小,因此市场占比提升更多。Gartner 预测 2025 年全球集成电路制造刻蚀设备市场规模预计将增长至 181.85 亿美元,年复合增长率约为 5.84%。而国内集成电路制造市场由于起步较晚,目前以成熟制程为主,相较于国外市场 CCP 刻蚀机市场相对更大。