PECVD与HWCVD工艺对比
2023-12-01 08:10:14
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2019-2020拓荆科技PECVD国内市占率16.6%
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PECVD 技术是借助于辉光放电等离子体使含有薄膜的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜材料生长的一种制备技术;热丝化学气相沉积(HWCVD)是利用高温热丝催化作用使SiH4 分解从而制备硅薄膜。
其它
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