双重光刻使分辨率翻倍
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计版图拆分放置在两块掩模上，使用两次光刻技术，将图形转移到衬底上。双重光刻中，第一次光刻使用第一块掩模版，光刻完成后，做刻蚀，把光刻胶上的图形转移到下面的硬掩模上，然后旋涂光刻胶使用第二块掩模完成第二次光刻（曝光和显影），刻蚀把第二次的光刻胶图形转移到硬掩模上，最后把硬掩模上的图形刻蚀转移到衬底上。双重光刻技术直接加倍了对光刻胶的需求，未来业界很可能继续引进多重光刻技术，加之目前越先进的制程要求的光刻次数越多，这无疑进一步推高了对光刻胶的需求。
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