图表49ASML各代光刻机分辨率、生产效率与套刻精度的发展历程
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双工件台架构通过并行作业显著提升产能效率，已成为 ASML 先进机型的标配。2000 年ASML 率先推出 TWINSCAN 双工件台系统，在一台晶圆曝光的同时，另一台可同步完成对准、调平和调焦，曝光完成后快速切换，大幅减少待机时间，使光刻机整体产能提升约 35%。目前 ASML TWINSCAN NXT:2050i/2100i 光刻机每小时可生产 295 片晶圆。双工件台系统依托气浮与磁浮平面电机驱动，实现大行程、高速、高加速度下的纳米/亚纳米级精度运动。例如，在 38nm 节点工艺中，光刻机要求工件台的移动平均偏差小于1nm，移动标准差小于 7nm，已成为 ASML 先进机型的标配。
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