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体作为缓冲剂。气体在放电激励下形成短暂存在的“准分子”，在受激辐射过程中释放紫外激光。应用于光刻机的主要包括 KrF（248nm）与 ArF（193nm）光源。浸没式光刻技术进一步将 193nm 光源的等效波长缩短至 134nm。该技术的难点在于实现高重复频率、高功率（影响性能）与窄线宽（保障成像精度并降低色差影响）。
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