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第一壁材料的选择面临着平衡等离子体对材料的影响和材料对等离子体的影响的挑 战。通常选择铍作为第一壁的涂层材料，因为低原子量材料易于电离，但铍的高侵蚀率和毒性使其不太可能成为首选。相比之下，钨由于其高熔点和热导率可能是一个可行的选择。因此，在第一壁材料的选择中需要权衡各种因素，以保护设备并最大限度地减少对等离子体的影响。
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