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具体来看,紫外光从光源系统生成后,被导入照明系统,在这里,光需要被整理,包括改变光的形状、实时测量光强度、调整光的均匀度,离开照明系统的光还必须控制部分的遮挡与开合,以提供掩模版的扫描。扫描穿过掩模版的光会进入投影物镜系统。投影物镜系统将光聚焦在晶圆表面预涂的光阻上,实现把掩模版上的图案成像在晶圆上。
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