DUV光刻主要用于28nm及以上成熟制程
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DUV 主要用于 28nm 及以上的成熟制程。中小容量的存储芯片、模拟芯片、MCU、电源管理芯片、模数混合芯片、CMOS 传感器、传感器等主要采用成熟制程。受益于下游新能源汽车、新一代通信技术、安防、云计算等领域的快速发展,射频、功率半导体等使用成熟制程的芯片需求量大增,带动DUV 光刻需求爆发。
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