DUV光刻胶原材料体系变化
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材料体系发生变化，DUV 光刻胶技术难点突破关键在于树脂结构设计。DUV 光刻胶采用光致产酸剂 PAG 作为感光剂，经过曝光后 PAG 可产生酸，使主体树脂发生脱保护反应，从而带来曝光部分和未曝光部分的溶解性差异。DUV 光刻胶树脂结构包含主链与功能性支链，通过支链上的单体调整对光刻胶进行改性从而满足不同曝光波长下的需求。在 KrF 光刻胶中，以聚 4-羟基苯乙烯（PHOST）为主链，通过引入不同的酸致脱保护基团实现其 248nm 波长光下的感光性；在 ArF光刻胶中，以聚甲基丙烯酸酯类（PMA）为主链，并通过引入脂肪环类甲基丙烯酸酯类单体来增强其抗刻蚀性。
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