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，ASML正考虑在EUV光源的波长条件下，增大物镜的数值孔径NA。目前ASML已经量产的NXE系列EUV光刻机的NA为0.33，0.55 NA的高数值孔径（High-NA）EUV光刻机也已成功研发并出货，ASML计划于2025-2026年量产High-NA EUV光刻机，并开始研发新一代0.75 NA的Hyper-NA EUV光刻机（预计2030年推出）。
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