CCP刻蚀设备付运设备数量(台)
2025-02-25 13:37:02
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电容性等离子体刻蚀反应腔(CCP)
2024-07-16 08:18:40
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CCP与ICP简化示意
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576
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图表53.经纬恒润中央计算平台(CCP)产品功能
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图表52.经纬恒润中央计算平台(CCP)产品架构
2023-12-05 08:45:25
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先进逻辑器件领域,公司CCP和ICP刻蚀设备近期目标市占率分别提升至60%和75%
2023-08-31 08:06:54
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2022年全球刻蚀设备市场达230亿美元,ICP&CCP
2023-08-17 08:10:13
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2022年全球刻蚀设备中ICP与CCP占比相
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产品获行业主流客户认可,CCP 和 ICP 刻蚀设备付运量持续提升。公司等离子体刻蚀设备已成功进入台积电、中芯国际、华虹集团、长江存储等国内外知名半导体制造企业。公司凭借完整的单台和双台刻蚀设备布局、核心技术持续突破、产品升级快速迭代、刻蚀应用覆盖丰富等优势,在国内外持续获得更多客户的认可,CCP和 ICP刻蚀设备付运量持续提升。截至 2024年 6月,公司累计生产付运超过 3600 个 CCP 刻蚀反应台,2024 年上半年新增付运设备超 700 个,创历史新高。
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