图表32EUV光刻机总体结构及主要组成系统
2025-10-16 13:47:21
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EUV特性要求采用全反射的投影物镜系统
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2024年全球EUV及ArFi高端光刻机被ASML垄断
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传统反射式光路图（早期EUV原理装置，主镜和次镜两反射镜）
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EUV光刻机空间成像测量系统（AIMS™）零部件繁多
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采用浸没式DUV与EUV的工艺步数对比
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ASML发展历程复盘2020s：EUV拓展期
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ASML总体结构及主要组成系统（以EUV光刻机为例）◆
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2018年起，7nm时代先进逻辑芯片扩产，带动EUV收入高增
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分产品收入（亿欧元）：尖端光刻机EUV、浸没式ArFi占比较高
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各节点下所需的各光刻机的成本占比：EUV（包括High-NAEUV）光刻机成本占比随节点推进而提升，
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光刻机系统高度复杂，光源、光学与工件台三大部件构成性能与价值的核心。光刻机被誉为“超精密装备的珠穆朗玛峰”，整机由数十个子系统、数以万计零部件协同运作，包括自动对准、调焦调平、传输搬运、环境控制及整机控制等模块。其中，曝光光源系统、光学系统与工件台是整机性能的三大核心部件，直接决定分辨率、成像精度与产能水平。
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